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怎么寫好一份專利申請技術交底書

專利申請技術交底書 轉(zhuǎn)載:www.f9105.cn 492人看過 2022-06-28 18:26:14
專利申請技術交底書

這篇文章的內(nèi)容是關于專利申請技術交底書的。要寫好專利申請技術交底書,需寫明發(fā)明創(chuàng)造名稱、申請人/專利權人、機構編號/身份證號碼、聯(lián)系地址/郵編、電子郵件/電話號碼和專利發(fā)明人,還需寫明專利的背景技術、技術方案的描述、優(yōu)點或效果等。

發(fā)明創(chuàng)造名稱:____________。 

申請人/專利權人:____________。 

機構編號/身份證號碼:____________。 

聯(lián)系地址、郵編:____________。 

電子郵件,電話號碼:____________。 

專利發(fā)明人:____________。 

1.背景技術(要求對現(xiàn)有技術進行描述,說明目前所采用專業(yè)技術的具體結構、方法或工藝流程等,分析現(xiàn)有技術存在的不足或缺陷;必要時,可以提供附圖說明)。 

怎么寫好一份專利申請技術交底書

2.專利申請的詳細技術方案描述(對專利申請進行詳細的技術說明,包括具體結構、方法或工藝流程等,其工作原理和工作過程、以及相關技術創(chuàng)造之處的技術分析和說明:其中,對有形狀的產(chǎn)品,還應結合附圖及其編號說明各部分、各部件的名稱及連接關系,技術改進之處的體現(xiàn),以及可替代的技術解決方案等;對于傳統(tǒng)工藝類的發(fā)明專利,需寫明工藝方法或技術的具體操作步驟,各步驟的工藝條件或工藝參數(shù),以及工藝條件或工藝參數(shù)的高低變化會帶來什么重要影響)。 

3.專利申請的優(yōu)點或積極效果(發(fā)明的優(yōu)點、特征和積極效果將結合其改進來描述,并且將描述其改進。 理想的是進行理論分析;對于公式和/或工藝發(fā)明的專利申請,還需要給出顯示積極結果的實驗數(shù)據(jù)和對比解釋)。 

4.說明書附圖(附圖可以是結構圖、裝配圖、運動圖、示意圖、方框圖或產(chǎn)品及個別零件的程序流程圖等。除金相結構圖或組織細胞圖外,不能以照片作為附圖。產(chǎn)品的結構示意圖,參照機械制圖制作的,應顯示不同于現(xiàn)有技術的特征結構)。

聲明:該作品系作者結合法律法規(guī)、政府官網(wǎng)及互聯(lián)網(wǎng)相關知識整合。如若侵權請及時與我們聯(lián)系,我們將按照規(guī)定及時處理。
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吳凱迪
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